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                        真空鍍膜機的操作使用

                        更新時間:2022-01-12      點擊次數:3468
                        真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。
                         
                        真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子槍加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
                         
                        真空鍍膜機的操作使用:
                         
                        1、檢查設備各操作控制開關是否在"關"位置。
                        2、打開總電源開關,真空鍍膜設備送電。
                        3、低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。
                        4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。
                        5、落下鐘罩。
                        6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。
                        7、開復合真空計電源。
                        (1)左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。
                        (2)低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置。
                        8、當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
                        9、真空鍍膜設備開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。
                        10、低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥。
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