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                        Leica EM ACE200真空鍍膜儀具有哪些特點?

                        更新時間:2023-09-12      點擊次數:278
                        真空金屬鍍膜技術是在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法。
                         
                        真空鍍膜儀是一款多功能型真空鍍膜系統設備,用于制備超薄、細顆粒的導電金屬膜和碳膜,以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。
                         
                        Leica EM ACE200真空鍍膜儀是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便。
                         
                        主要技術參數:
                         
                        可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網格表面親水化)
                        設計脈沖式碳絲蒸發方式,可精確控制碳膜厚度
                        可選石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達0.1nm
                        全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
                        觸摸屏控制,簡單方便
                        真空度7×10-3mbar
                        濺射電流:0-150mA可調
                        方形樣品倉設計,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
                        工作距離調節范圍:30mm-100mm
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